PICOSUN™P-1200 PICOSUN™ P-1200原子層沉積系統專門對批量的大尺寸平面基底進行低溫薄膜沉積， 應用于有機光電和顯示器等領域。
PICOSUN™ P-1200 ALD系統專門對批量的大 尺寸平面基底進行低溫薄膜沉積， 應用于有機光電、顯示器和OLED等領域。主要的應用包括制備各種各樣的鈍化層和阻擋層， 顯著提高器件的性能和壽命。巧妙、創新的設計使 得PICOSUN™ P-1200 ALD系統在具有制備高 均一性的高質量ALD薄膜的同時能夠有很高 的產量， 并且是市場上保養、維護時間， 購置成本最小的ALD系統。這些都已經在實際 生產中得到證實。
可靠、快速且易于維護的PICOSUN™ P-1000 ALD系統代表了的工業化ALD工藝水平！
襯底尺寸和類型
? 400x 500 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）
? 370x 470 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）
? 柔性襯底的臥式批量加工
工藝溫度和產率
? 50 – 120°C
? 產量達到168片/24h (100nm Al2O3)
標準工藝
? 低溫沉積Al2O3等薄膜材料
基片裝載
? 半自動裝卸
? 預真空室配備溫度控制器（25 - 80 °C），以達 到產量和水分污染
前驅體
? 液態、固態、氣態、臭氧源
? 源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務
? 7根獨立源管線， 最多加載10個前驅體源
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