PICOSUN™P-300B PICOSUN™ P-300B型原子層沉積系統是一款批量生產型設備， 用于加工打印讀頭、傳感器、麥克風等MEMS器件； 以及透鏡、各種光學部件、珠寶、硬幣、醫療植入物等3D部件。
PICOSUN™ P-300系統已經成為高產能ALD 制造業的新標準。擁有的熱壁、 獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計， 確 保我們可以生產出具有優異的成品率、低 顆粒水平和的電學和光學性能的高質 量ALD薄膜。高效緊湊的設計使得維護更 加方便、快捷， 限度的減少了系統的 維護停工期和使用成本。擁有技術的 Picoflow™使得在超高深寬比結構上沉積 保形性薄膜更高效， 并已在生產線上得到 驗證。
襯底尺寸和類型
? 200mm晶圓 25片/批次（標準間距）
? 150mm 晶圓 50片/批次（標準間距）
? 100mm 晶圓 75片/批次（標準間距）
? 非標準晶圓類基底（使用定制夾具）
? 高深寬比基底（深寬比1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500°C
標準工藝
? 批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環*
? Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬
? 同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片加載
? 氣動升降， 手動裝載
? 線性半自動裝載
前驅體
? 液態， 固態， 氣態， 臭氧源
? 源瓶余量傳感器， 提供清洗和裝源服務
? 4根獨立的源管線，最多加載8個前驅體源
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