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簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC10:考夫曼型離子源Gridded系列最小型號的離子源.適用于集成在小型的真空設備中,例如預清洗,離子濺射,離子蝕刻.在1000eV低能量,通Ar氬氣時...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC75:緊湊柵極離子源,離子束直徑14cm,可安裝在8“CF法蘭.適用于中小型腔內,考夫曼離子源KDC75包含2個陰極燈絲,其中一個作為備用,KDC75提...

簡介：上海伯東代理美國KRI霍爾離子源eH400低成本設計提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統,可以控制較低的離子能量,通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低能量離子蝕...

簡介：霍爾離子源eH提供一套完整的方案包含離子源,電子中和器,電源供應器,流量控制器MFC等等可以直接整合在各類真空設備中,例如鍍膜機,loadlock,濺射系統,卷繞鍍膜機等

簡介：離子源廣泛用于離子清洗PC,離子蝕刻IBE,輔助鍍膜IBAD,離子濺射鍍膜IBSD領域,上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

簡介：上海伯東美國KRI射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時間更長!射頻源RFICP系列提供完整的套裝,套裝包含離子源本體,電子供應器...

簡介：美國KRI霍爾離子源eH系列緊湊設計，高電流低能量寬束型離子源，提供原子等級的細微加工能力，霍爾離子源eH可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面，多種型號滿足科研及工業、半導體應用。

簡介：上海伯東美國*考夫曼離子源KDC系列,加熱燈絲產生電子,是典型的考夫曼型離子源,增強設計輸出高質量,穩定的電子流.

簡介：FIG05離子源不但具有zui小150微米束斑和zui高5keV能量，可以用于深度剖析和ISS。而且FIG05還可以提供*束流的能量小于10eV的低能離子，適用于需要正離子的雙束電荷中和。

簡介：SE5離子源是一款設計緊湊、使用靈活的冷陰極離子源，zui大束流超過45微安，能量范圍從300eV直到5keV。對于低能離子具有*的束流，使ISE5適于敏感材料的轟擊清潔。