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簡介：上海伯東代理美國進口KRi射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有離子光學元件,可以很好的控制離子束去濺射...

簡介：上海伯東美國KRi大口徑射頻離子源RFICP380,3層柵極設計,柵極口徑38cm,提供離子動能100-1200eV寬束離子束,zui大離子束流1000mA,滿足300mm(12英寸)晶圓應用.廣...

簡介：美國KRI霍爾離子源eH系列緊湊設計,高電流低能量寬束型離子源,提供原子等級的細微加工能力,霍爾離子源eH可以以納米精度來處理薄膜及表面,多種型號滿足科研及工業,半導體應用.霍爾離子源高電流提高鍍...

簡介：美國KRI考夫曼公司新升級GriddedKDC系列離子源,新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制.考夫曼離子源KDC系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用.考夫曼離子源KDC提供一套完整的方...

簡介：上海伯東美國KRi射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時間更長!射頻源RFICP系列提供完整的系列,包含離子源本體,電子供應器,中...

簡介：上海伯東美國KRI大口徑射頻離子源RFICP380,3層柵極設計,柵極口徑38cm,提供離子動能100-1200eV寬束離子束,套裝包含離子源本體和電源控制器.

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列,離子能量的柵極離子源

簡介：KRI考夫曼離子源KDC100上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC100中型規格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對準柵極,標準配置...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設計離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內,例如研發分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...

簡介：KRIIonSource應用領域：無柵極等離子源技術----End-Hall離子/等離子源有柵極離子源技術----RFICP離子源