品名：X射線熒光鍍層厚度測量儀FT9500X型號：FT9500X概要：通過新型X射線聚焦光學系統（聚焦導管）的開發，用我司的膜厚最小的實際照射直徑30μm實現高亮度X射線束

品名：X射線熒光鍍層厚度測量儀FT9500X
型號：FT9500X
概要：通過新型X射線聚焦光學系統（聚焦導管）的開發，用我司的膜厚最小的實際照射直徑30μm實現高亮度X射線束。為此，可以對以往X射線熒光鍍層厚度測量儀由于照射強度不足而無法得到理想精度的導線架，掐接頭，柔性線路板等微小部件及薄膜進行測量。另外，相比FT9500，以往1/5的照射面積可以測量同等的精度。
特長
FT9500X產品規格
可測量元素原子序數13(Al)～83(Bi)
總電源管電壓：50kV
管電流：1mA
檢測器半導體檢測器(無需液氮)
X射線聚光聚焦導管方式
樣品觀察彩色CCD攝像頭（附變焦功能）
焦點激光焦點
濾波器Au超薄膜厚測量用濾波器
樣品平臺240(W)×175(D)mm
X：220mmY：150mmZ：150mm
420(W)×330(D)mm
X：400mmY：285mmZ：50mm
操作方式電腦19英寸液晶顯示器
測量軟件薄膜FP法（最多5層）薄膜檢量線
數據處理Microsoft®Excel、Microsoft®Word
安全功能樣品室門連鎖