簡要描述：光學鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。

名   稱：光學鍍膜橢偏儀

型   號：ME-L 

品   牌：頤光

光學鍍膜橢偏儀在手機蓋板中的應用

光學鍍膜就好比女士化妝，不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮，也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用，所以在如今這個“看臉”的時代，蓋板的光學鍍膜是非常重要的，目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應用。

 光學鍍膜橢偏儀蓋板光學鍍膜痛點分析

1、AR膜透過率不合格NG

2、顏色膜調色困難，周期長。

3、量產過程產品不穩定，存在色差。

橢偏儀在光學鍍膜各階段的作用

造成蓋板光學鍍膜產品不良的主要因素在于：

A；仿真設計調用材料折射率與鍍膜生產中實際材料折射率不符。

B；鍍膜設備實際鍍層厚度與膜系設計要求不符。

C；量產過程對鍍膜設備穩定性/均勻性缺乏有效評估手段。

橢偏儀可以有效測量修正上述影響因子，為蓋板量產保駕護航。

1：膜系設計——膜層實際折射率的標定

★鍍膜實際折射率的影響因素：供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等

★橢偏儀可直接測量獲得薄膜材料的光學常數和薄膜厚度，因此通過鍍膜機在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜，可直接準確測量獲得薄膜的光學常數。

★通過調整鍍膜機參數，以橢偏儀測量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學常數為反饋，將薄膜材料光學常數調整至狀態。此時對應的鍍膜機參數即為厚度鍍膜時所需設定的終參數。

2：工藝研發——鍍膜設備tolling校正

★通常來說，鍍膜機通過晶振來控制鍍膜厚度，而實際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足，導致實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機中，可通過工具因子（Tooling值）控制鍍膜機的蒸鍍速率，進而可對實際鍍膜厚度進行調控。

★橢偏儀可以準確測量獲得薄膜的厚度，因此可用于校正鍍膜機的工具因子（Tooling值），使實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度*。

3；量產監控——實時監測各項鍍膜指標

★鍍膜膜厚是否在設計范圍。

★材料折射率有無顯著波動。

★透過率是否滿足工藝需求。

★色度值是否滿足工藝需求。

★反射率是否滿足工藝需求。

光學鍍膜橢偏儀售后服務：

1、廠家貨源

   貨源有保障，可以根據客戶不同測試需求，提供不同測試方案。

2、關于售后

   4小時電話響應，24小時內安排。終生維護。

3、關于發貨

   到款4-5天內到貨，江蘇、深圳區域第二天可以到貨。