工作溫度 360℃和 500℃、潔凈度 100 級、氧濃度低于20ppm，主要應用于固化半導體晶圓（光刻膠 PI、PBO 固化）、玻璃基板烘烤、高精度退火處理等。

采用耐熱高性能高效過濾器，箱內潔凈度始終保持在 100 級，可在潔凈的環境下進行高溫烘烤。高氣密性的壓力箱構造，氧濃度到達時間短，N2 消耗量極低。

通過磁密封保持高氣密性，并采用水冷機構保護密封部件免受熱量影響。

可實現快速升溫和降溫，升降溫速率可調節。

標準裝備有廢液回收裝置，對氣體進行冷卻回收。

擁有門檢測開關、溫度過升防止器、氧濃度異常、氮氣壓力檢測、氮氣流量檢測、冷卻水流量檢測、漏水傳感器、過電流漏電漏電保護開關等安裝裝置。