Zeta-20 Optical Profiler

產品描述

Zeta-20是一款緊湊牢固的全集成光學輪廓顯微鏡，可以提供3D量測和成像功能。該系統采用ZDot™技術，可同時采集高分辨率3D數據和True Color（真彩）無限遠焦點圖像。 Zeta-20具備Multi-Mode（多模式）光學系統、簡單易用的軟件、以及低擁有成本，適用于研發及生產環境。

Zeta-20臺式光學輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統。 該系統采用ZDot™技術（美國：編號US7729049B2；US7944609B2；US8174762B2；US8184364B2；USB2）和Multi-Mode (多模式)光學系統，可以對各種不同的樣品進行測量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級別的臺階高度。

Zeta-20的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學量測技術。ZDot™測量模式可同時采集高分辨率3D數據和True Color（真彩）無限遠焦點圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。 ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進行測量。 Zeta-20也是一種顯微鏡，可用于樣品復檢或自動缺陷檢測。 Zeta-20通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能，適用于研發及生產環境。

主要功能

•      采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學器件的簡單易用的光學輪廓儀，具有廣泛的應用

•       可用于樣品復檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡

•       ZDot：同時采集高分辨率3D數據和True Color（真彩）無限遠焦點圖像

•       ZXI：白光干涉測量技術，適用于z向分辨率高的廣域測量

•       ZIC：干涉對比度，適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數據

•       ZSI：剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像

•       ZFT：使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

•       AOI：自動光學檢測，并對樣品上的缺陷進行量化

•       生產能力：通過測序和圖案識別實現全自動測量

主要應用

•      臺階高度：納米到毫米級別的3D臺階高度

•       紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

•       外形：3D翹曲和形狀

•       應力：2D薄膜應力

•       薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

•       缺陷檢測：捕獲大于1μm的缺陷

•       缺陷復檢：采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

工業應用

•      太陽能：光伏太陽能電池

•       半導體和化合物半導體

•       半導體 WLCSP（晶圓級芯片級封裝）

•       半導體FOWLP（扇出晶圓級封裝）

•       PCB和柔性PCB

•       MEMS（微機電系統）

•       醫療設備和微流體設備

•       數據存儲

•       大學，研究實驗室和研究所