產品功能：

清洗： 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發生化學反應從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層。

活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。
如：PDMS鍵合，粘接前的預處理，涂裝前的預處理，印刷前的預處理。

蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。

涂層：使工藝部件表面發生等離子聚合反應，前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發生聚合反應，形成聚合物層。如：疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層。
 

具體應用：

• 去除油脂、油、氧化物、纖維
• 去除硅氧樹脂
• 綁定、焊接、粘結前的預處理
• 金屬部件涂裝前的預處理
• 鍵合
• 石墨烯、煤樣灰化
 

選配：

控制系統： PCCE全自動控制/PC全自動控制。

 

氣體：

多路氣體
 

腔體：

可根據客戶要求定制大腔體
 

托盤：

石英玻璃舟皿/粉末轉鼓/散裝件轉鼓/鋁板/不銹鋼板/硼硅玻璃/石英/水冷型
 

電極：

單層或多層/帶氣體噴淋裝置的 RIE 電極
 

壓力測量：

Pirani/電容式壓力計 （適用于腐蝕性氣體版本）
 

發生器：

80 kHz：0- 1000 / 3000 W 13.56 MHz： 0 - 300 W/600 W/ 1000 W 2.45 GHz： 0 - 1200 W
 

其他：

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