Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀，真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度可達(dá)2×10 -6 mbar。鍍膜細(xì)膩均勻。內(nèi)置石英膜厚檢測(cè)器，可控制鍍膜厚度。全自動(dòng)電腦控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當(dāng)下流行的觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便。儀器可選離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）需求。可選碳絲蒸發(fā)鍍碳膜，用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜，獲得極其細(xì)膩的金屬膜與碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。

主要技術(shù)參數(shù)

• 可任選離子濺射模式，碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，碳棒（熱阻）蒸發(fā)模式，電子束蒸發(fā)模式，雙濺射模式，濺射-碳絲模式，濺射-碳棒模式，濺射-電子束模式，雙電子束模式，可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統(tǒng)，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

• 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可控制碳膜厚度

• 內(nèi)置石英膜厚檢測(cè)器，控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm

• 全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

• 觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便

• 采用隔膜泵+渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度≤2×10 -6 mbar

• 濺射電流：0-150mA可調(diào)

• 方形樣品倉設(shè)計(jì)，樣品倉尺寸：200mm（寬）×150mm（深）×195mm（高）

• 樣品臺(tái)內(nèi)置旋轉(zhuǎn)，工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm