Explorer是多功能的高真空研發和中試生產平臺，其配置可為電子束(e-beam) 蒸發、電阻蒸發或磁控濺射。所有三種配置中均可選配離子輔助沉積功能。Explorer可在半手動模式下使用，也可升級到全自動模式，一鍵自動化操作，可以減少系統停機時間。

用途：
光學鍍膜表征和設計 半導體器件開發 CIGS 和高級材料研究

電子顯微鏡樣品制備 質量保證 故障分析

優勢：

Explorer憑借靈活的腔室尺寸可以容納8英寸大的基片。濺射配置適合直流、脈沖直流和射頻濺射，并具備共聚焦濺射能力。可以選擇專有PEM技術，該技術是針對金屬氧化物和氮化物過渡模式下高速反應濺射的閉環控制系統。
我們提供多種抽真空配置—擴散泵、冷泵和渦輪泵—泵可安裝在設備后部或底部來滿足工藝需求，并提供快速抽氣能力滿足高產能需求。