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alpha300 RA 德國witec激光共聚焦顯微拉曼系統

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alpha300 RA –在一個系統里面集成化學成分分析和納米級別的結構成像


alpha300 RA 是高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統,可以在標準的Alpha 300R共聚焦拉曼系統上通過標準模塊升級即可完成拉曼原子力系統聯用,獲得原位的AFM和Raman圖像的疊加。alpha300 RA *的設計理念使聯用系統既保留300R強大的化學組分分析能力,同時加入微納級別的表面形貌等特性的分析能力,使研究者能對樣品進行深度完善的分析和理解。
 
alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補的技術得以在一套系統里面實現,兩種技術的性能*不受聯用的影響,而且使用同一個操作軟件,使得操作和分析變得簡單應用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡,只需要簡單轉動物鏡轉盤,成像軟件即可原位完成兩種技術的圖像對比,疊加和分析
 
此外alpha300 RA可進一步升級來配合TERS (高分辨拉曼)測量
 

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯用系統主要特點

· 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 A (原子力) 的性能集成到一個顯微鏡系統內
· 優異的原位化學組分分析(拉曼)和微納級別表面特征分析(原子力)的結合
· 原子力和拉曼同時進行的選擇
· 嚴格原位,*不需要在測量過程中移動樣品
· 只需要轉動物鏡轉盤即可在兩種測量技術之間簡單切換

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯用系統應用實例

 

多組分高分子混合物,包含了1:1:1比例的聚苯乙烯(PS),充油丁苯橡膠(SRB)和丙烯酸乙基己酯(EHA)的原位拉曼及原子力圖像對標
*左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB,藍色代表EHA.
第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓撲結構,相位,粘附力和粘度
 
 
金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應力分析,原位拉曼原子力圖像
左圖:10x10um原子力表面拓撲結構和深度輪廓圖,右圖壓痕周邊的應力拉曼圖像,紫色為未受應力影響,黃色為壓力應變,灰色為張力應變
 

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯用系統性能

通用拉曼操作模式


· 拉曼光譜成像:連續掃描的拉曼高光譜全譜成像,每個樣品點都能獲得完整的拉曼光譜
· 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式
· 快速和慢速時間序列
· 單點及Z方向深度掃描
· 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀,專為弱光應用的拉曼光譜設計
· 共聚焦熒光顯微鏡功能
· 明場顯微鏡功能
 

通用原子力顯微鏡操作模式

· 接觸模式
· AC 模式(輕敲模式)
· 數字脈沖力模式 (DPFM)
· 抬高模式
· 磁力顯微鏡模式 (MFM)
· 靜電力顯微鏡模式 (EFM)
· 相位成像模式
· 力曲線分析
· 微納操控及微納印刷
· 橫向力模式 (LFM)
· 化學力模式 (CFM)
· 電流探測模式
· 其他可選
 

基本顯微鏡指標

· 研究級別的光學顯微鏡,6孔物鏡轉盤
· 明場CCD相機,代替目鏡觀察樣品
· LED明場科勒照明
· 電動XYZ樣品臺,25x25x20mm平移范圍
· 主動隔震平臺
 

各類拉曼升級選項(如true surface等)

· 多種激光可選擇
· 多種光譜儀可選擇
· 自動共聚焦拉曼成像
· 自動多區域多點測量
· 可升級超快拉曼圖像模式(需配置EMCCD和Piezo樣品臺,可獲得每秒1300張光譜的速度)
· 可升級落射熒光照明
· 自動聚焦功能
· 顯微鏡觀察法可選,如暗場,像差,偏光,微分干涉等
 

超高通光量UHTS光譜儀

· 各類透射式波長優化譜儀可選 (UV, VIS or NIR),均為弱光拉曼光譜設計
· 光纖耦合,70%超高光通量
· 優異的成像質量,光譜峰形對稱無像差
 

控制電腦

WITec控制和數據采集,處理軟件


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