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S100 劃痕儀

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納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結合強度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強度與基底的變形尺度等.

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美國NANOVEA納米劃痕測試儀
飾 美國NANOVEA公司是一家*的劃痕測試儀的革新者，生產的劃痕測試儀是目前上用在科學研究和工業領域的設備之一，該公司在光學設計、精密機械和科學軟件算法方面，擁有*不斷發展的技術，由于這些專門技術的應用，NANOVEA為生產和質量控制的研究和發展提供精密準確的*解決方案。
納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結合強度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強度與基底的變形尺度等，主要應用在：
  1. 半導體技術（鈍化層、鍍金屬、Bond Pads）；
  2. 存儲材料（磁盤的保護層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護層）；
  3. 光學組件（*頭、光纖、光學刮擦保護層）；
  4. 金屬蒸鍍層；
  5. 防磨損涂層（TiN, TiC, DLC, 切割工具）；
  6. 藥理學（藥片、植入材料、生物組織）；
  7. 工程學（油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS）；
主要特點有：
1. *符合ASTM D7187，D7027，D1624，C171，ISO 20502，ISO 1518
2.       光學顯微鏡自動觀察
3.       壓電陶瓷反饋控制
4.       加載載荷與劃痕深度的實時測量
5.       實時三維表面輪廓測量
可選件有：
  1. 多種劃痕針頭
  2. 微米、顯微模塊
  3. 硬度測試模塊
  4. 摩擦磨損測試模塊
  5. 聲發射模塊
  6. AFM模塊
  7. 三維顯微模塊


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