Q300T T Plus三靶大腔室全自動濺射鍍膜儀

Q300T T Plus用于200 mm直徑（8英寸）以下的大樣品或多個小樣品，是一個大腔室渦輪泵濺射鍍膜系統，適合薄膜研究和普通掃描電鏡/場發射掃描電鏡樣品制備應用。它配有三個獨立的濺射頭，以確保單個大樣品或多個小樣品的均勻沉積。對于小樣品的經濟的鍍膜，可選擇“單靶”模式。Q300T T Plus被設計成濺射一系列氧化和非氧化（貴金屬）的金屬靶材，標配三塊57 mm直徑x 0.3 mm厚度的相同的鉻（Cr）靶。請注意：不能用Q300T T Plus將每個濺射頭配置三種不同的濺射金屬去實現三層連續鍍膜！

有關連續鍍制兩層不同材料的膜層，請參閱Q300T D Plus。其它大腔室鍍膜儀，請參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

儀器特點：

•   極限真空5 x 10^-5mbar或更優

•   電容式觸摸屏，靈敏度高，更易觸控使用；用戶界面軟件全面更新，使用現代智能手機技術界面

•   全面的文字幫助頁面

•   USB接口可輕松進行軟件更新，也可將配方文件備份/復制到USB存貯器

•   log文件格式為.csv，內含日期、時間和工作參數，可導出至Excel或類似軟件中分析

•   允許多用戶輸入和儲存鍍膜方案，并可根據近的使用情況來排列每個用戶的配方

•   16GB內存，雙核ARM處理器，可實現快速響應的顯示；帶觸摸屏按鈕的全圖形界面，包括近使用的1000個鍍膜日志等功能

•   帶內爆防護罩的可拆卸玻璃腔室，可選高腔室

•   多種樣品臺可選

•   三個相同靶材的大面積濺射頭；磁控冷濺射；脈沖清潔用于濺射Al（鋁）

•   可選的膜厚監控附件（FTM）

•   大而多色的LED指示燈，實現可視化狀態指示；程序完成后具有音頻聲音提示

*應用：

•   理想的大面積濺射鍍膜應用

•   晶圓檢驗

•   選用“單靶”模式，實現經濟的鍍膜應用

•   可濺射各種易氧化和非易氧化金屬，用于薄膜及掃描電鏡多樣品制備

Q300T T Plus是英國Quorum出品的認可的Q系列鍍膜儀的一部分，數千家客戶使用此類鍍膜儀。Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應用提供高質量的鍍膜解決方案，Q系列功能多樣、價格合理且易于使用。這些產品科研用途。

Q Plus系列鍍膜儀也有較小腔室的版本，請參閱：Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus；SC7620和Q150GB也是可選的型號。