產品簡介：MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機,噴膠機采用步進電機和微處理器來控制容積泵，從而保證*精確輸送溶劑，保證超聲噴霧過程的連續性。通過一個超聲波霧化器來制備厚度較薄的微納米涂層，并且由一個步進電機控制噴霧器可在X軸和Y軸方向移動，且移動速度可在一定范圍內進行調節，以確保噴涂后的基片表面涂層的均勻性。MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機通過一個加熱平臺來控制基底溫度，從而加速薄膜的干燥速度，加熱平臺的加熱溫度可高達500℃，在此溫度范圍內基本可以滿足絕大多數實驗的需要。
產品名稱 | MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機 |
產品型號 | MSK-USP-04C |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備噴頭為氣動輔助，需配套空氣壓縮機或者氣瓶（含減壓閥） 4、工作臺：落地式設備，占地面積2m2以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質結構。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。現在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應用。 |
技術參數 | 1、電源：220V 50Hz/60Hz 2、超聲波霧化器：40KHz 100W
3、噴霧器在X軸和Y軸上的行程：1mm-200mm
4、噴霧器移動速度：X軸方向10mm/s-800mm/s，Y軸方向10mm/s-100mm/s 5、噴涂膠體顆粒大小： 10um-20um 6、流量大小： 0.6pl~4ml/min 7、固體含量要求： ≤ 10% 8、粘度大小要求： ≤ 100cPs 9、涂層間距：1mm-100mm 10、Z軸高度max調節量：60mm 11、加熱器平臺尺寸：350mm×220mm
12、加熱溫度可高達：500℃，加熱板帶有抽氣微孔，可以真空吸附較薄樣品，滿足鈣鈦礦太陽能電池等薄膜制備的需求。 13、標配注液器容積：20 ml 14、注液泵裝載：直徑不超過Ø30mm的注液器
15、注液速度：0.1mm/min-45mm/min，微調速度0.01mm/min-8mm/min
16、注射器行程設置范圍：0.001mm-120mm |
產品規格 | 尺寸：主機1550mm×750mm×750mm，*250mm×225mm×170mm |
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