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簡(jiǎn)介：RIE是干蝕刻的一種，這種蝕刻的原理是，當(dāng)在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radiofrequency）時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層（ionsheath），在其中放入試樣，離子...

簡(jiǎn)介：臺(tái)式無掩膜激光直寫光刻機(jī)打破了市面上傳統(tǒng)激光直寫設(shè)備高昂價(jià)格壁壘，是現(xiàn)階段市面上優(yōu)性價(jià)比的一款*的激光直寫光刻系統(tǒng)

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