輸入功率

• 110V / 220V 通用
• < 2000W (含真空泵)

輸出功率

• 1600VDC
• zui大電流50mA 

樣品室

石英罩： 160 mm Dia. x 120mm Height

樣品臺

• 一個外徑50 mm 的樣品臺, 基片可以放在樣品臺上，可以移動三個位置 
• 可選購加熱型樣品臺（zui高溫度可到500℃）
• zui長濺射時間不可超過5分鐘

控制面板

• 控制面板為PLC，4.3" 觸摸屏
• 一個控制面板可以控制所有的參數,包括真空度 , 電流 , 靶材位置和基片加熱溫度

真空泵（選配）
 

• VRD-8 120L/M旋片式真空泵（選配）
• KF25 真空接口、卡箍，和600mm長不銹鋼波紋管
• 不銹鋼波紋管與KF-25真空接口相連接
• 各種高純度金屬靶
• 需要一個帶壓力調節器的氬氣瓶 （這個我們不提供）

進氣口

一個精密可調針閥安裝在進氣口，以實現方便的調節進氣量

靶材

• 要求安裝靶材的尺寸：直徑Φ47mm,厚度0.5-3mm
• 經試驗證明此款儀器可濺射的靶材：Au、Ag、Pt、Cr和Ni
• 不可濺射靶材：氧化物、半導體、一些輕金屬、Al、Zn、C等
• 可在本公司選購靶材,具體請點擊鏈接

 外形尺寸
  

• 360mm × 350mm × 360mm (L×W×H)
• 凈重:50KG

質保期

一年質保期，相關耗材除外，終身維護。

質量認證

   Certified