高速（大面積） X 射線元素面分析（薄膜厚度分析）

一、亮點

1）10ppm------檢測極限

由于XRF譜圖背景低于EDS譜圖，Micro-XRF可實現(xiàn)微量元素分析

2）4mm/s------移動速度

可選的、快速樣品、支持大面積的高速面分析

3）1 nm - 40um層厚度范圍

可分析從1 nm到40 um具有多層結(jié)構(gòu)的薄膜

4）微區(qū) XRF 是 SEM 中 EDS 分析的互補分析技術(shù)

a）掃描電子顯微鏡（SEM）的微區(qū) X 射線熒光 （Micro-XRF） 技術(shù)是與傳統(tǒng)能量分散光譜（EDS）能力補充的無損分析技術(shù)。這種分析技術(shù)對于未知樣品中元素成分的表征非常重要，而未知樣品的尺寸可以從厘米尺寸的不均勻樣品到微米尺寸的顆粒

b）X射線激發(fā)源為微量元素的檢測帶來了更高的靈敏度（對于某些元素，檢出限可低至 10ppm）。同時，光譜范圍可以拓延（高達40 keV）以及探測深度可以更深

c）配備 X 射線管，結(jié)合微聚焦 X 射線光學(xué)器件，可產(chǎn)生 30 μm 的小束斑和高強度通量

d）模塊化基于壓電的樣品臺，專門設(shè)計用于安裝在現(xiàn)有SEM 樣品臺上，使大面積高速元素X射線面分析"飛一樣地"運行，速度高達4毫米/秒。這使得在 50 x 50 mm（或更大）的樣本面積上采集 X 射線面分布數(shù)據(jù)成為可能。同時，輕元素光譜數(shù)據(jù)以及微量元素和/或更高能量的 X 射線數(shù)據(jù)也納入快速且用戶友好的工作流中

e）X射線激發(fā)的樣品深度更深，這讓多層系統(tǒng)的表征成為可能。1 nm到高達40μm 的薄膜樣品均可以分析，而這是用電子束源激發(fā)無法實現(xiàn)的

二、優(yōu)勢

通過 Micro-XRF 和快速樣品臺擴展您的 SEM 分析能力

a）雙束電壓，包括電子束和X射線束，這為材料表征提供了新的可能性 - 可以同時使用兩個束源來調(diào)查樣品

b）使用相同的探測器同時進行電子束/微區(qū)XRF信號采集，包括輕元素光譜數(shù)據(jù)，微量元素和/或更高能量X射線數(shù)據(jù)

c）XTrace和 快速樣品臺 都無縫集成到 ESPRIT軟件中

d）EDS 和 微區(qū)XRF 定量方法相結(jié)合，將電子激發(fā)的更好的輕元素靈敏度與 XRF 更好的微量元素表征靈敏度相結(jié)合，產(chǎn)生更完整的樣品表征結(jié)果

e）與微區(qū) XRF 和 電子束同步面分析表征，結(jié)合兩個技術(shù)的優(yōu)勢。使用電子束激發(fā)較輕的元素（碳到鈉），使用微區(qū) XRF激發(fā)較重的元素

f）剝離的譜峰峰值和擴展的光譜范圍讓用戶能夠看到高能量 K 線，因為它們不復(fù)雜且重疊峰更少

g）幾乎不需要樣品制備 – 不導(dǎo)電樣品表面，也無需拋光

h）包含無標樣和有標樣定量模型

i）在um尺度且低濃度水平下，也能同時分析輕元素和重元素

三、相關(guān)應(yīng)用圖片