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Excite Pharos飛秒激光剝蝕系統(tǒng)

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Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)是市面上很具操作性的飛秒系統(tǒng),采用結(jié)構(gòu)緊湊、全密閉的工業(yè)級激光源,無需二次校準(zhǔn)和清潔維護(hù)。系統(tǒng)提供多種波長可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長切換控制,相對應(yīng)的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長期穩(wěn)定運行情況下剝蝕穩(wěn)定性RSD能達(dá)到0.1%。同時系統(tǒng)配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續(xù)的剝蝕環(huán)境。

詳細(xì)信息 在線詢價

產(chǎn)品特點

美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于之一的Photon Machines團(tuán)隊(縮寫PMI),其代產(chǎn)品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗,產(chǎn)品線涉及213nm固體激光、193nm準(zhǔn)分子激光、飛秒激光系統(tǒng)(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)(與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并完善系統(tǒng)的功能,足以為元素分析用戶提供*的激光剝蝕技術(shù)。

Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)是市面上很具操作性的飛秒系統(tǒng),采用結(jié)構(gòu)緊湊、全密閉的工業(yè)級激光源,無需二次校準(zhǔn)和清潔維護(hù)。系統(tǒng)提供多種波長可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長切換控制,相對應(yīng)的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長期穩(wěn)定運行情況下剝蝕穩(wěn)定性RSD能達(dá)到0.1%。同時系統(tǒng)配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續(xù)的剝蝕環(huán)境。

注:使用飛秒激光剝蝕系統(tǒng)用于化學(xué)分析受美國保護(hù)(號5656186及RE37585,由美國密歇根大學(xué)持有),隸屬于CETAC品牌的Teledyne Photon Machines持有密歇根大學(xué)提供的許可,用于提供飛秒激光剝蝕系統(tǒng)。

技術(shù)參數(shù)

  • 激光源為Light Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ
  • 激光波長1028nm、257nm、206nm可選
  • 脈沖寬度<190fs-10ps
  • 脈沖能量可達(dá)2mJ
  • 可調(diào)脈沖頻率1-200kHz(步進(jìn)1Hz)
  • 波長轉(zhuǎn)換選項廣(諧波發(fā)生器、OPA、NOPA、連續(xù)發(fā)生器)
  • 只經(jīng)歷一次光學(xué)折射以減少脈沖展寬
  • 每個波長都有獨立的光路
  • 獨立的視頻和激光光學(xué)控制單元,能夠更好的查看樣品剝蝕點
  • 連續(xù)可調(diào)光斑大小1-65μm
  • 兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
  • 集成的冷卻系統(tǒng)減少實驗室空間

應(yīng)用領(lǐng)域

基礎(chǔ)分析,半導(dǎo)體材料分析,地質(zhì)樣品分析,同位素比值研究


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