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氮化硅支持膜

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氮化硅支持膜氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜,主要用于納米技術和分子生物研究,它的優點是化學和機械性能穩定耐腐蝕,可以承受高達1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆粒或細胞進行各種納米技術實驗。應用領域:FIB樣品支撐,細胞生物學(附著的細胞可以直接在支持膜上的環境中生長,然后進行分析)、分析膠體,氣溶膠,納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)、材料科學、半導體器件的納米結構的性質、半導體:薄膜表征、催化劑研發。 分類: 支持膜

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描述

氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜,主要用于納米技術和分子生物研究,它的優點是化學和機械性能穩定耐腐蝕,可以承受高達1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆粒或細胞進行各種納米技術實驗。應用領域:FIB樣品支撐,細胞生物學(附著的細胞可以直接在支持膜上的環境中生長,然后進行分析)、分析膠體,氣溶膠,納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)、材料科學、半導體器件的納米結構的性質、半導體:薄膜表征、催化劑研發。

膜厚度:彈性,超低應力8、15、35或50nm,可產生最小吸收,從而實現清晰的成像;堅固,低應力的100nm和200nm,可在多個平臺上更好地處理和使用;窗口尺寸: 0.25 x 0.25mm,0.5 x 0.5mm,0.75 x 0.75mm,1.0 x 1.0mm,0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個0.1 x 0.1mm窗口或2個0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區域,例如,可以實現層析成像應用所需的更大的傾斜角度。具有多個窗口的版本允許將多個樣本安裝在單獨的窗口上。表面粗糙度: RMS(Rq)為0.65 +/- 0.06nm,平均粗糙度(Ra)為0.45 +/- 0.02nm。貨號21510-10到21579-10。

Silicon Nitride Support FilmEasyGrip multiple windowsUltrathin 8nmHydrophobic and Hydrophilic Silicon Nitride MembraneCLEM的氮化硅膜CLEM的氮化硅膜X射線窗正方形X射線窗正方形

產品貨號載網目數材質規格
21901-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚200nm10/包
21902-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚200nm10/包
21903-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚200nm10/包
21904-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚100nm10/包
21905-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚100nm10/包
21906-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚100nm10/包
21907-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚50nm10/包
21908-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚50nm10/包
21909-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚50nm10/包


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