高級薄膜測定系統

NKD-8000系統綜合了光學、電子學和高級分析軟件，是目前測定多層薄膜和基片的折射率、吸收系數和厚度確、易用的系統。NKD-8000系列產品具有全自動、可同時測定透過光譜和反射光譜，入射光角度從0°到90°連續改變。對分光光譜儀而言，這是一項的新功能，使得NKD-8000適用于挑戰性的光學測量。對多層薄膜和基片的n、k和d的測定變得準確、快捷。

NKD-8000v 280nm—1000nm ( 紫外增強型)

NKD-8000r 800nm—1700nm ( 紅 外 型 )

NKD-8000w 350nm—1700nm (寬光譜型 )

NKD-8000e 350nm—2500nm (超寬光譜 型 )

注：寬光譜型提供兩個檢測器，可以覆蓋350nm到1000nm和800nm到1700nm或2500nm (僅適用nkd-8000e)，但二者不能同時用。獲得數據時間 2—10分鐘，這取決于光譜范圍和不同選件

數據分析時間 5秒—5分鐘，取決于數據的復雜程度

光 譜 分辨率 1nm或2nm （可選）

光 源 NKD-8000v 150W 氙弧燈

其 他 高穩態100W石英鎢鹵燈

樣 品 尺 寸 10×10mm到200×250mm標準系統

100mm 直徑樣品的掃描臺

層 數 至多5層，兩個未知參數

薄膜厚度范圍 5nm到20um，取決于角度、偏振和波長

1nm 需要增加橢偏模塊

基 片 透明、半透明或半吸收或半導體

材 料 電介質、高聚物、半導體和金屬

精 確 度 對于 半吸收薄膜 典型 大

薄膜厚度 ＜1% ＜3%

折射率 ＜0.1% ＜1%

消光系數 ＜1% ＜3%

對于 金屬薄膜

薄膜厚度 ＜1% ＜3%

折射率 ＜1% ＜3%

消光系數 ＜1% ＜3%

重 現 性 透射率 ＜0.01% ＜0.1%

反射率 ＜0.01% ＜1%

折射系數 ＜0.01% ＜0.1%

入射光角度 30°、50°或70°（標準單元）或由客戶的從

20°到70°連續可變（可變角版本）或3個位置角度

樣品上的光斑尺寸 5mm(標準系統)，250um（選件）

電 源 220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A

外觀尺寸 890×540×720mm

重 量 105Kg

選 件 多角度，可變角度，X-Y樣品掃描臺，多種標準尺寸樣品架。樣品觀測顯微鏡。手動或全軟件控制的偏振選件（s-、p-或非偏振）。樣品加熱臺。臺式機或工業PC。

主要特點

◆ 可測定波長范圍從280nm到2300nm的透射和反射光譜

◆ 在同一區域可同時測定T和R值

◆ 可對折射率(n)，吸收系數(k) 和厚度(d)進行準確測定

◆ 樣品可在X-Y掃描臺上進行掃描

◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和從0°到90°的連續變化的角度

◆ 可用s-、p-或非偏振光作為入射光對T和R進行測定

◆ 可對透明基片進行測定且不需要對樣品進行前處理

◆ 內建的材料數據庫

◆ 密封的樣品室

◆ 可選擇散射模式

◆ 具有在線或離線分析功能

對T和R同時測定

KD-8000系統在同一個光斑處，同時對透過光譜和發射光譜進行測定，保證了兩套數據具有直接的相關性。通過測定這些光譜，全自動的控制和分析軟件系統可以從中得到n、k和d值。而且所有這些都源自同一次測定。不同散射模式的選擇使得對寬廣范圍材料的分析成為可能，而且用戶可以選擇缺省模式或者高級分析模式。

功能強大的Pro-Optix^TM控制和分析軟件系統包括一個可編輯的數據庫，它允許對材料進行預先定義，以提高分析速度。該軟件的其他特點包括顏色的匹配和太陽光的計算以及金屬薄膜的算法。樣品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而無需對它們特殊處理。

NKD-8000是一款能全部提供上述功能的分光型光學薄膜分析系統，它為薄膜表征設立了一個標準。

①反射光檢測 ②光束管 ③Y軸坐標 ④透射光檢測器 ⑤Z軸坐標 ⑥X軸坐標 ⑦樣品臺 ⑧馬達驅動的可變角度選擇裝置

NKD-8000系統提供可變的角度選擇裝置，它提供*馬達驅動的，可由PC機控制入射光的角度，入射角度從從0°到90°可自由選擇。